- 专利标题： Lithographic apparatus and device manufacturing method
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申请号： US10994669申请日： 2004-11-23
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公开(公告)号： US20050068511A1公开(公告)日： 2005-03-31
- 发明人: Paulus Liebregts , Arno Bleeker , Erik Loopstra , Harry Borggreve
- 申请人： Paulus Liebregts , Arno Bleeker , Erik Loopstra , Harry Borggreve
- 申请人地址： NL Veldhoven NL-5504
- 专利权人： ASML Netherlands B.V.
- 当前专利权人： ASML Netherlands B.V.
- 当前专利权人地址： NL Veldhoven NL-5504
- 优先权： EP02254089.2 20020612
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20 ; H01L21/027 ; G03B27/54
摘要：
A lithographic apparatus uses the control signal from a computer to drive two spatial light modulators to pattern two separate projection beams for projection onto two substrates.
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