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发明申请
US20060071197A1 Electroconductive oxide sintered compact, sputtering target comprising the sintered compact and methods for producing them 有权
导电氧化物烧结体，包含该烧结体的溅射靶及其制造方法

  • 专利标题： Electroconductive oxide sintered compact, sputtering target comprising the sintered compact and methods for producing them
  • 专利标题（中）： 导电氧化物烧结体，包含该烧结体的溅射靶及其制造方法
  • 申请号： US10522263
    申请日： 2003-06-12
  • 公开(公告)号： US20060071197A1
    公开(公告)日： 2006-04-06
  • 发明人: Ryo Suzuki
  • 申请人： Ryo Suzuki
  • 申请人地址： JP Tokyo 105-8407
  • 专利权人： Nikko Materials Co., Ltd.
  • 当前专利权人： Nikko Materials Co., Ltd.
  • 当前专利权人地址： JP Tokyo 105-8407
  • 优先权： JP2002-228165 20020806
  • 国际申请： PCT/JP03/07483 WO 20030612
  • 主分类号： H01B1/12
  • IPC分类号： H01B1/12
Electroconductive oxide sintered compact, sputtering target comprising the sintered compact and methods for producing them
摘要：
A SrRuO3 conductive oxide sintered body characterized in that the relative density is 93% or more. By improving the additive amount and sintering conditions of Bi2O3, the present invention seeks to improve the relative density of a SrRuO3 conductive oxide sintered body, and to provide a conductive oxide sintered body capable of suppressing the generation of particles during sputtering upon forming a thin film and improving the quality and production yield; a sputtering target formed from such sintered body; and the manufacturing method thereof.
摘要（中）：

SrRuO 3导电氧化物烧结体，其特征在于相对密度为93％以上。 通过改善Bi 2 O 3 N 3的添加量和烧结条件，本发明寻求提高SrRuO 3 N 3导电氧化物的相对密度 并且提供一种导电氧化物烧结体，其能够在形成薄膜时在溅射期间抑制颗粒的产生，并且提高质量和产率; 由这种烧结体形成的溅射靶; 及其制造方法。

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