发明申请
US20070058145A1 Lithographic apparatus, programmable patterning structure, device manufacturing method, and device manufactured thereby
审中-公开
光刻设备，可编程图案结构，器件制造方法以及由此制造的器件
- 专利标题： Lithographic apparatus, programmable patterning structure, device manufacturing method, and device manufactured thereby
- 专利标题（中）： 光刻设备，可编程图案结构，器件制造方法以及由此制造的器件
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申请号： US11595968申请日： 2006-11-13
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公开(公告)号： US20070058145A1公开(公告)日： 2007-03-15
- 发明人: Arno Bleeker
- 申请人： Arno Bleeker
- 申请人地址： NL Veldhoven
- 专利权人： ASML Netherlands B.V.
- 当前专利权人： ASML Netherlands B.V.
- 当前专利权人地址： NL Veldhoven
- 优先权： EP02258163.1 20021127
- 主分类号： G03F7/26
- IPC分类号： G03F7/26
摘要：
Pixel element for a programmable patterning structure (e.g. a spatial light modulator) which can simultaneously modulate both phase and amplitude. Use of such a programmable patterning structure with lithographic projection apparatus is also described.