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发明申请
US20070134585A1 Dissolution inhibitors in photoresist compositions for microlithography 审中-公开
用于微光刻的光致抗蚀剂组合物中的溶解抑制剂

  • 专利标题： Dissolution inhibitors in photoresist compositions for microlithography
  • 专利标题（中）： 用于微光刻的光致抗蚀剂组合物中的溶解抑制剂
  • 申请号： US10565505
    申请日： 2004-07-21
  • 公开(公告)号： US20070134585A1
    公开(公告)日： 2007-06-14
  • 发明人: Shahab Jahromi , Franciscus Derks , Andrey Lyapunov
  • 申请人： Shahab Jahromi , Franciscus Derks , Andrey Lyapunov
  • 优先权： EP03102269.2 20030723
  • 国际申请： PCT/NL04/00522 WO 20040721
  • 主分类号： G03C1/00
  • IPC分类号： G03C1/00
Dissolution inhibitors in photoresist compositions for microlithography
摘要：
The invention relates to photoresist composition suitable for use at 10-165 nm comprising: (a) a polymeric binder (b) a photoactive compound (c) a dissolution inhibitor, the dissolution inhibitor comprising at least (i) two aromatic groups, (ii) fluorine and (iii) a blocked acid group which when unblocked has a pKa
摘要（中）：

本发明涉及适用于10-165nm的光致抗蚀剂组合物，其包含：（a）聚合物粘合剂（b）光敏化合物（c）溶解抑制剂，所述溶解抑制剂至少包含（i）两个芳族基团， ）氟和（iii）当未封闭时具有pKa <12的封闭酸基。 优选的溶解抑制剂是其中桥连碳原子被氟化脂肪族基团取代的双酚衍生物。

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