发明申请
- 专利标题： CUT-AND-PASTE IMPRINT LITHOGRAPHIC MOLD AND METHOD THEREFOR
- 专利标题（中）： 切割和抛光印花图案模型及其方法
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申请号： US11924651申请日： 2007-10-26
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公开(公告)号： US20080116602A1公开(公告)日： 2008-05-22
- 发明人: Matthew E. Colburn , Yves C. Martin , Theodore G. van Kessel , Hematha K. Wickramasinghe
- 申请人： Matthew E. Colburn , Yves C. Martin , Theodore G. van Kessel , Hematha K. Wickramasinghe
- 申请人地址： US NY Armonk
- 专利权人： International Business Machines Corporation
- 当前专利权人： International Business Machines Corporation
- 当前专利权人地址： US NY Armonk
- 主分类号： B29C33/38
- IPC分类号： B29C33/38 ; B29C59/02
摘要：
A method (and apparatus) of replicating a pattern on a structure, includes using imprint lithography to replicate a pattern formed on a first structure onto a portion of a second structure.
公开/授权文献
- US07776709B2 Cut-and-paste imprint lithographic mold and method therefor 公开/授权日：2010-08-17
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