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发明申请
US20080124192A1 Relay Station And Substrate Processing System Using Relay Station 审中-公开
使用中继站的继电站和基板处理系统

  • 专利标题： Relay Station And Substrate Processing System Using Relay Station
  • 专利标题（中）： 使用中继站的继电站和基板处理系统
  • 申请号： US11793686
    申请日： 2006-02-28
  • 公开(公告)号： US20080124192A1
    公开(公告)日： 2008-05-29
  • 发明人: Wataru Karasawa
  • 申请人： Wataru Karasawa
  • 优先权： JP2005-056362 20050301
  • 国际申请： PCT/JP06/03693 WO 20060228
  • 主分类号： H01L21/677
  • IPC分类号： H01L21/677
Relay Station And Substrate Processing System Using Relay Station
摘要：
A relay station (10) has its interior determined as a substrate storing section (10a), and supporting sections (11) for supporting plural semiconductor wafers are formed on facing side walls of the substrate storing section. A substrate processing apparatus-side opening section (12) and a transfer apparatus-side opening section (13) are formed on both sides of the relay station (10), and these opening sections are provided with a substrate processing apparatus-side opening/closing mechanism (14) and a transfer apparatus-side opening/closing mechanism (15). A bottom plane (18) of the relay station (10) has a shape of a FOUP conforming to the SEMI standard and can be placed on a placing table for placing the FOUP.
摘要（中）：

中继站（10）的内部被确定为基板存储部分（10a），并且用于支撑多个半导体晶片的支撑部分（11）形成在基板存储部分的相对的侧壁上。 在中继站（10）的两侧形成有基板处理装置侧开口部（12）和转印装置侧开口部（13），这些开口部设置有基板处理装置侧开闭部（13） 关闭机构（14）和传送装置侧开闭机构（15）。 中继站（10）的底平面（18）具有符合SEMI标准的FOUP的形状，并且可以放置在用于放置FOUP的放置台上。

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