发明申请
- 专利标题： DETERMINING COPPER CONCENTRATION IN SPECTRA
- 专利标题（中）： 确定光谱中的铜浓度
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申请号： US11868911申请日： 2007-10-08
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公开(公告)号： US20080130000A1公开(公告)日： 2008-06-05
- 发明人: Dominic J. Benvegnu , Jeffrey Drue David , Boguslaw A. Swedek , Jimin Zhang , Harry Q. Lee
- 申请人： Dominic J. Benvegnu , Jeffrey Drue David , Boguslaw A. Swedek , Jimin Zhang , Harry Q. Lee
- 申请人地址： US CA Santa Clara
- 专利权人： APPLIED MATERIALS, INC.
- 当前专利权人： APPLIED MATERIALS, INC.
- 当前专利权人地址： US CA Santa Clara
- 主分类号： G01J3/46
- IPC分类号： G01J3/46 ; G06F19/00
摘要：
Methods of subtracting the copper contribution to spectra obtained from a substrate during chemical mechanical polishing are described.
公开/授权文献
- US07768659B2 Determining copper concentration in spectra 公开/授权日：2010-08-03
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