METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE INCLUDING FERROELECTRIC CAPACITOR

发明申请

US20080199976A1 METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE INCLUDING FERROELECTRIC CAPACITOR 审中-公开

标题翻译：制造包含电容器的半导体器件的方法

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专利标题： METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE INCLUDING FERROELECTRIC CAPACITOR
专利标题（中）： 制造包含电容器的半导体器件的方法
申请号： US12035066

申请日： 2008-02-21
公开(公告)号： US20080199976A1

公开(公告)日： 2008-08-21
发明人: Takahiro YAMAGATA , Kouichi NAGAI , Junichi WATANABE
申请人： Takahiro YAMAGATA , Kouichi NAGAI , Junichi WATANABE
申请人地址： JP Kawasaki-shi
专利权人： FUJITSU LIMITED
当前专利权人： FUJITSU LIMITED
当前专利权人地址： JP Kawasaki-shi
优先权： JP2007-040351 20070221
主分类号： H01L21/8239
IPC分类号： H01L21/8239

METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE INCLUDING FERROELECTRIC CAPACITOR

摘要：

A semiconductor device manufacturing method has a step forming a transistor layer portion on a semiconductor substrate, and a step forming a ferroelectric capacitor portion including a lower electrode, a ferroelectric substance and an upper electrode above the transistor layer portion, wherein the step forming the ferroelectric capacitor portion includes adjusting an area of the upper electrode on the basis of manufacturing parameters of the ferroelectric capacitor portion.

摘要（中）：

半导体器件制造方法具有在半导体衬底上形成晶体管层部分的步骤，以及在晶体管层部分上方形成包括下电极，铁电体物质和上电极的铁电电容器部分的步骤，其中形成铁电体电容器部分包括基于强电介质电容器部分的制造参数调整上电极的面积。

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IPC分类:

H	电学
H01	基本电气元件
H01L	半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件（使用半导体器件的测量入G01；一般电阻器入H01C；磁体、电感器、变压器入H01F；一般电容器入H01G；电解型器件入H01G9/00；电池组、蓄电池入H01M；波导管、谐振器或波导型线路入H01P；线路连接器、汇流器入H01R；受激发射器件入H01S；机电谐振器入H03H；扬声器、送话器、留声机拾音器或类似的声机电传感器入H04R；一般电光源入H05B；印刷电路、混合电路、电设备的外壳或结构零部件、电气元件的组件的制造入H05K；在具有特殊应用的电路中使用的半导体器件见应用相关的小类）
H01L21/00	专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/70	.由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造（由预制电组件组成的组装件的制造入H05K3/00，H05K13/00）
H01L21/77	..在公共衬底中或上面形成的由许多固态元件或集成电路组成的器件的制造或处理（电可编程只读存储器或其多步骤的制造方法入H01L27/115）
H01L21/78	...把衬底连续地分成多个独立的器件（改变表面物理特性或者半导体形状的切割入H01L21/304）
H01L21/82	....制造器件，例如每一个由许多元件组成的集成电路
H01L21/822	.....衬底是采用硅工艺的半导体的（H01L21/8258优先）
H01L21/8232	......场效应工艺
H01L21/8234	.......MIS工艺
H01L21/8239	........存储器结构