PROJECTION OBJECTIVE AND PROJECTION EXPOSURE APPARATUS FOR MICROLITHOGRAPHY

发明申请

US20080297884A1 PROJECTION OBJECTIVE AND PROJECTION EXPOSURE APPARATUS FOR MICROLITHOGRAPHY 有权

标题翻译：投影目标和投影曝光装置的微观算法

专利标题： PROJECTION OBJECTIVE AND PROJECTION EXPOSURE APPARATUS FOR MICROLITHOGRAPHY
专利标题（中）： 投影目标和投影曝光装置的微观算法
申请号： US12129161

申请日： 2008-05-29
公开(公告)号： US20080297884A1

公开(公告)日： 2008-12-04
发明人: Ralf Mueller
申请人： Ralf Mueller
申请人地址： DE Oberkochen
专利权人： CARL ZEISS SMT AG
当前专利权人： CARL ZEISS SMT AG
当前专利权人地址： DE Oberkochen
主分类号： G02B17/08
IPC分类号： G02B17/08 ; G02B13/14 ; G06F17/50

摘要：

Projection objective, projection exposure apparatuses and related systems and components are disclosed.

摘要（中）：

投影目标，投影曝光装置及相关系统和组件被公开。

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