发明申请
- 专利标题： Sputtering Target, Thin Film for Optical Information Recording Medium and Process for Producing the Same
- 专利标题（中）： 溅射靶，用于光学信息记录介质的薄膜及其制造方法
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申请号： US12178957申请日： 2008-07-24
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公开(公告)号： US20080299415A1公开(公告)日： 2008-12-04
- 发明人: Hideo Hosono , Kazushige Ueda , Masataka Yahagi , Hideo Takami
- 申请人： Hideo Hosono , Kazushige Ueda , Masataka Yahagi , Hideo Takami
- 申请人地址： JP Tokyo
- 专利权人： Nippon Mining & Metals Co., Ltd.
- 当前专利权人： Nippon Mining & Metals Co., Ltd.
- 当前专利权人地址： JP Tokyo
- 优先权： JP2003-056884 20030304
- 主分类号： B32B9/00
- IPC分类号： B32B9/00 ; C23C14/34
摘要：
A sputtering target is provided that has a relative density of 80% or more and contains a compound having as its principal component zinc oxide satisfying AXBYO(KaX+KbY)/2(ZnO)m, 1
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