发明申请
US20090075002A1 Block copolymer nanostructure formed on surface pattern with shape different from nanostructure of the block copolymer and method for preparation thereof
有权
在与嵌段共聚物的纳米结构不同的表面图案上形成的嵌段共聚物纳米结构体及其制备方法
- 专利标题： Block copolymer nanostructure formed on surface pattern with shape different from nanostructure of the block copolymer and method for preparation thereof
- 专利标题（中）： 在与嵌段共聚物的纳米结构不同的表面图案上形成的嵌段共聚物纳米结构体及其制备方法
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申请号： US12081172申请日： 2008-04-11
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公开(公告)号： US20090075002A1公开(公告)日： 2009-03-19
- 发明人: Sang Ouk Kim , Dong Ok Shin , Bong Hoon Kim
- 申请人： Sang Ouk Kim , Dong Ok Shin , Bong Hoon Kim
- 申请人地址： KR Daejeon
- 专利权人： KOREA ADVANCED INSTITUTE OF SCIENCE AND TECHNOLOGY
- 当前专利权人： KOREA ADVANCED INSTITUTE OF SCIENCE AND TECHNOLOGY
- 当前专利权人地址： KR Daejeon
- 优先权： KR10-2007-0093708 20070914
- 主分类号： B32B27/00
- IPC分类号： B32B27/00 ; B05D3/02
摘要：
Disclosed are block copolymer nanostructures formed on surface patterns different from nanostructure of the block copolymer and preparation methods thereof.
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