发明申请
- 专利标题： PIXEL STRUCTURE AND FABRICATION METHOD THEREOF
- 专利标题（中）： 像素结构和制造方法
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申请号： US11951321申请日： 2007-12-05
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公开(公告)号： US20090108280A1公开(公告)日： 2009-04-30
- 发明人: Shiun-Chang Jan , Han-Tu Lin
- 申请人： Shiun-Chang Jan , Han-Tu Lin
- 优先权： TW096140324 20071026
- 主分类号： H01L33/00
- IPC分类号： H01L33/00 ; H01L21/02
摘要：
A fabrication method of a pixel structure includes utilizing only a single photomask in two different lithographic processes for defining patterns of the source/drain and passivation layer respectively. Therefore, the total amount of photomasks of the fabrication process can be decreased.
公开/授权文献
- US07935583B2 Fabrication method of pixel structure 公开/授权日：2011-05-03
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IPC分类:
