发明申请
US20090136878A1 TOPCOAT COMPOSITION, ALKALI DEVELOPER-SOLUBLE TOPCOAT FILM USING THE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
有权
TOPCOAT组合物，使用组合物的ALKALI开发者可溶性顶部膜和使用其的图案形成方法
- 专利标题： TOPCOAT COMPOSITION, ALKALI DEVELOPER-SOLUBLE TOPCOAT FILM USING THE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
- 专利标题（中）： TOPCOAT组合物，使用组合物的ALKALI开发者可溶性顶部膜和使用其的图案形成方法
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申请号： US12271510申请日： 2008-11-14
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公开(公告)号： US20090136878A1公开(公告)日： 2009-05-28
- 发明人: Shinichi KANNA
- 申请人： Shinichi KANNA
- 申请人地址： JP Tokyo
- 专利权人： FUJIFILM CORPORATION
- 当前专利权人： FUJIFILM CORPORATION
- 当前专利权人地址： JP Tokyo
- 优先权： JP2007-295328 20071114
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20 ; C08L83/00 ; C08L81/00 ; C08G77/00
摘要：
A topcoat composition to be applied on a resist film is provided, the topcoat composition including: (A) an alkali-soluble resin; (B) a compound containing at least one of an Si atom and an F atom, and increasing a contact angle on a surface of the topcoat film; and (C) a solvent.
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