发明申请
- 专利标题： Template Having Alignment Marks Formed of Contrast Material
- 专利标题（中）： 具有对比标记形成对比材料的模板
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申请号： US12464487申请日： 2009-05-12
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公开(公告)号： US20090250840A1公开(公告)日： 2009-10-08
- 发明人: Kosta S. Selinidis , Byung-Jin Choi , Gerard M. Schmid , Ecron D. Thompson , Ian Matthew McMackin
- 申请人： Kosta S. Selinidis , Byung-Jin Choi , Gerard M. Schmid , Ecron D. Thompson , Ian Matthew McMackin
- 申请人地址： US TX Austin
- 专利权人： MOLECULAR IMPRINTS, INC.
- 当前专利权人： MOLECULAR IMPRINTS, INC.
- 当前专利权人地址： US TX Austin
- 主分类号： B29C59/02
- IPC分类号： B29C59/02
摘要：
Imprint lithography substrates may include alignment marks formed of high contrast material. Exemplary methods for forming alignment marks having high contrast material are described.
公开/授权文献
- US08012395B2 Template having alignment marks formed of contrast material 公开/授权日：2011-09-06
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