发明申请
- 专利标题： CURABLE COMPOSITION FOR NANOIMPRINT, AND PATTERNING METHOD
- 专利标题（中）： NANOIMPRINT的可固化组合物和方法
-
申请号： US12472023申请日： 2009-05-26
-
公开(公告)号： US20090283937A1公开(公告)日： 2009-11-19
- 发明人: Kunihiko KODAMA , Akinori FUJITA , Tadashi OOMATSU , Akiyoshi GOTO
- 申请人： Kunihiko KODAMA , Akinori FUJITA , Tadashi OOMATSU , Akiyoshi GOTO
- 申请人地址： JP Tokyo
- 专利权人： FUJIFILM Corporation
- 当前专利权人： FUJIFILM Corporation
- 当前专利权人地址： JP Tokyo
- 优先权： JP2008-030854 20080212; JP2008-207844 20080812
- 主分类号： B29C59/16
- IPC分类号： B29C59/16 ; C08F12/08 ; C08F20/22
摘要：
A curable composition for nanoimprints which comprises a polycyclic aromatic structure-having polymerizable monomer and a photopolymerization initiator is excellent in mold releasability, etching resistance and solvent resistance and capable of forming patterns.
公开/授权文献
- US08025833B2 Curable composition for nanoimprint, and patterning method 公开/授权日：2011-09-27
信息查询
