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发明申请
US20100210053A1 PHOTO MASK AND METHOD OF MANUFACTURING IN-PLANE-SWITCHING MODE LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE USING THE SAME 有权
相片掩模及其制造方法使用该平板开关模式液晶显示装置

  • 专利标题： PHOTO MASK AND METHOD OF MANUFACTURING IN-PLANE-SWITCHING MODE LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE USING THE SAME
  • 专利标题（中）： 相片掩模及其制造方法使用该平板开关模式液晶显示装置
  • 申请号： US12641905
    申请日： 2009-12-18
  • 公开(公告)号： US20100210053A1
    公开(公告)日： 2010-08-19
  • 发明人: Tae Gyun Kim
  • 申请人： Tae Gyun Kim
  • 优先权： KR10-2009-0013611 20090218
  • 主分类号： G02F1/13
  • IPC分类号： G02F1/13 ;  G03F1/00
PHOTO MASK AND METHOD OF MANUFACTURING IN-PLANE-SWITCHING MODE LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE USING THE SAME
摘要：
A photo mask is disclosed.The photo mask includes a mask substrate, and a mask pattern formed to include a plurality of unit mask patterns which are arranged in a single line for a fine pattern formation. The unit mask pattern is configured to include a body portion positioned at a center and wing portions formed in a triangular shape at both sides of the body portion.
摘要（中）：

公开了一种光罩。 光掩模包括掩模基板和形成为包括多个单位掩模图案的掩模图案，这些单元掩模图案布置在单行中以进行精细图案形成。 单位掩模图案被构造为包括位于中心的主体部分和在主体部分的两侧形成为三角形形状的翼部。

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