发明申请
- 专利标题： Method of Exposing Substrate, Apparatus for Performing the Same, and Method of Manufacturing Display Substrate Using the Same
- 专利标题（中）： 基板的曝光方法，其基板的制造方法以及使用其的显示基板的制造方法
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申请号： US12778574申请日： 2010-05-12
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公开(公告)号： US20100261105A1公开(公告)日： 2010-10-14
- 发明人: Bo-Kyoung Ahn , Gug-Rae Jo , Hong-Suk Yoo , Chang-Hoon Kim , Min-Uk Kim , Joo-Han Bae
- 申请人： Bo-Kyoung Ahn , Gug-Rae Jo , Hong-Suk Yoo , Chang-Hoon Kim , Min-Uk Kim , Joo-Han Bae
- 优先权： KR2009-0119736 20090412
- 主分类号： G03B27/72
- IPC分类号： G03B27/72 ; G03F7/20 ; H01J9/00
摘要：
A photoresist layer exposed through first slits of a mask is exposed using first light. The photoresist layer exposed through second slits of the mask is exposed by using second light. The first light passes thorough a transflective shutter to generate the second light.
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