发明申请
- 专利标题： MOLD FOR NANOIMPRINT
- 专利标题（中）： 模具为NANOIMPRINT
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申请号： US13120720申请日： 2009-09-24
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公开(公告)号： US20110233820A1公开(公告)日： 2011-09-29
- 发明人: Junji Watanabe , Suzushi Nishimura , Takashi Seki , Tomoo Hirai
- 申请人： Junji Watanabe , Suzushi Nishimura , Takashi Seki , Tomoo Hirai
- 申请人地址： JP Tokyo JP Tokyo
- 专利权人： TOKYO INSTITUTE OF TECHNOLOGY,JX NIPPON OIL & ENERGY CORPORATION
- 当前专利权人： TOKYO INSTITUTE OF TECHNOLOGY,JX NIPPON OIL & ENERGY CORPORATION
- 当前专利权人地址： JP Tokyo JP Tokyo
- 优先权： JP2008-246101 20080925
- 国际申请： PCT/JP2009/066514 WO 20090924
- 主分类号： B29C59/02
- IPC分类号： B29C59/02
摘要：
A mold for nanoimprint including a liquid-crystalline polysilane and having a raised and recessed surface formed by the formation of a smectic phase due to the orientation of the liquid-crystalline polysilane.
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