发明申请
- 专利标题： SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD OF FORMING THE SAME
- 专利标题（中）： 半导体器件及其形成方法
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申请号： US13241741申请日： 2011-09-23
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公开(公告)号： US20120181693A1公开(公告)日： 2012-07-19
- 发明人: Jeeyong Kim , Jong-Hyun Park , Jin-Kyu Kang , Joonhee Lee
- 申请人： Jeeyong Kim , Jong-Hyun Park , Jin-Kyu Kang , Joonhee Lee
- 申请人地址： KR Suwon-si
- 专利权人： SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.
- 当前专利权人： SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.
- 当前专利权人地址： KR Suwon-si
- 优先权： KR10-2011-0004628 20110117
- 主分类号： H01L23/532
- IPC分类号： H01L23/532
摘要：
A semiconductor device may include an upper interconnection on a substrate and an anti-reflection pattern disposed on the upper interconnection. The anti-reflection pattern may include a compound including a metal, carbon and nitrogen.
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