发明申请
- 专利标题： PHOTOMASK AND MANUFACTURING METHOD THEREOF
- 专利标题（中）： 光电及其制造方法
-
申请号： US13425591申请日： 2012-03-21
-
公开(公告)号： US20130164656A1公开(公告)日： 2013-06-27
- 发明人: Woo Jin Lee , Jae Hun Kim , Chung Mo Yang , Jin Uk Lee , Sang Su Hong , Young Woo Lee
- 申请人： Woo Jin Lee , Jae Hun Kim , Chung Mo Yang , Jin Uk Lee , Sang Su Hong , Young Woo Lee
- 申请人地址： KR Gyunggi-do
- 专利权人： SAMSUNG ELECTRO-MECHANICS CO., LTD.
- 当前专利权人： SAMSUNG ELECTRO-MECHANICS CO., LTD.
- 当前专利权人地址： KR Gyunggi-do
- 优先权： KR1020110143606 20111227
- 主分类号： G03F1/76
- IPC分类号： G03F1/76 ; G03F1/00
摘要：
Disclosed herein are a photomask and a manufacturing method thereof. The photomask includes a transparent member, and a first mask and a second mask patterned on both sides of the transparent member, respectively.
信息查询
