SEMICONDUCTOR DEVICE AND FABRICATION METHOD THEREOF

Invention Application

US20130334670A1 SEMICONDUCTOR DEVICE AND FABRICATION METHOD THEREOF 审中-公开

Title translation: 半导体器件及其制造方法

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Patent Title: SEMICONDUCTOR DEVICE AND FABRICATION METHOD THEREOF
Patent Title (中): 半导体器件及其制造方法
Application No.: US13716011

Application Date: 2012-12-14
Publication No.: US20130334670A1

Publication Date: 2013-12-19
Inventor: Seung Beom BAEK , Su Jin CHAE , Min Yong LEE , Hye Jin SEO , Young Ho LEE , Jin Ku LEE , Jong Chul LEE
Applicant: SK HYNIX INC.
Applicant Address: KR Gyeonggi-do
Assignee: SK HYNIX INC.
Current Assignee: SK HYNIX INC.
Current Assignee Address: KR Gyeonggi-do
Priority: KR10-2012-0065801 20120619
Main IPC: H01L29/868
IPC: H01L29/868 ; H01L21/02

SEMICONDUCTOR DEVICE AND FABRICATION METHOD THEREOF

Abstract:

A semiconductor device and a fabrication method thereof are provided. The semiconductor device includes a first type semiconductor layer doped with an N type ion, a second type semiconductor layer formed over the first type semiconductor layer, and a silicon germanium (SiGe) layer doped with a P type ion formed over the second type semiconductor layer.

Abstract(Chinese):

提供半导体器件及其制造方法。半导体器件包括掺杂有N型离子的第一类型半导体层，在第一类型半导体层上形成的第二类型半导体层和在第二类型半导体层上形成的掺杂有P型离子的硅锗（SiGe）层。

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IPC分类:

H	电学
H01	基本电气元件
H01L	半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件（使用半导体器件的测量入G01；一般电阻器入H01C；磁体、电感器、变压器入H01F；一般电容器入H01G；电解型器件入H01G9/00；电池组、蓄电池入H01M；波导管、谐振器或波导型线路入H01P；线路连接器、汇流器入H01R；受激发射器件入H01S；机电谐振器入H03H；扬声器、送话器、留声机拾音器或类似的声机电传感器入H04R；一般电光源入H05B；印刷电路、混合电路、电设备的外壳或结构零部件、电气元件的组件的制造入H05K；在具有特殊应用的电路中使用的半导体器件见应用相关的小类）
H01L29/00	专门适用于整流、放大、振荡或切换，并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的半导体器件；具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒，例如PN结耗尽层或载流子集结层的电容器或电阻器；半导体本体或其电极的零部件（H01L31/00至H01L47/00，H01L51/05优先；除半导体或其电极之外的零部件入H01L23/00；由在一个共用衬底内或其上形成的多个固态组件组成的器件入H01L27/00）
H01L29/66	.按半导体器件的类型区分的
H01L29/86	..只能通过对一个或多个通有待整流，放大、振荡或切换的电流的电极供给电流的变化或施加电位的变化方可进行控制的（H01L29/96优先）
H01L29/861	...二极管
H01L29/868	....PIN二极管