发明申请
- 专利标题： HOLLOW METAL NANO PARTICLES
- 专利标题（中）： 中空金属纳米颗粒
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申请号： US14355172申请日： 2013-05-10
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公开(公告)号： US20140342157A1公开(公告)日： 2014-11-20
- 发明人: Sang Hoon Kim , Gyo Hyun Hwang , Jun Yeon Cho , Kwanghyun Kim
- 申请人： LG CHEM, LTD.
- 申请人地址： KR Seoul
- 专利权人： LG CHEM, LTD.
- 当前专利权人： LG CHEM, LTD.
- 当前专利权人地址： KR Seoul
- 优先权： KR10-2012-0050483 20120511; KR10-2013-0010526 20130130
- 国际申请： PCT/KR2013/004178 WO 20130510
- 主分类号： C22C5/04
- IPC分类号： C22C5/04
摘要：
The present application relates to hollow metal nano particles.
公开/授权文献
- US09776247B2 Hollow metal nano particles 公开/授权日：2017-10-03
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