PELLICLE AND EXPOSURE MASK INCLUDING THE SAME

Invention Application

US20160154299A1 PELLICLE AND EXPOSURE MASK INCLUDING THE SAME 有权

Title translation: 包装和包装包装

Abstract:

A pellicle includes a pellicle frame, a pellicle membrane, and an attaching element, a first surface of the attaching element having exposed pores.

Abstract(Chinese):

防护薄膜组件包括防护薄膜框架，防护薄膜和附着元件，附接元件的第一表面具有暴露的孔。

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Global Dossier Espacenet

IPC分类:

G	物理
G03	摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F	图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G）
G03F1/00	用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1/62	.薄膜或薄膜集合，例如在支持框架上具有薄膜；其制备
G03F1/64	..以框架为特征的,例如其结构或材料