发明申请
US20160172197A1 METHOD AND APPARATUS FOR NEUTRAL BEAM PROCESSING BASED ON GAS CLUSTER ION BEAM TECHNOLOGY AND ARTICLES PRODUCED THEREBY
审中-公开
基于气体离子束技术的中性光束处理方法与装置及其制作方法
- 专利标题： METHOD AND APPARATUS FOR NEUTRAL BEAM PROCESSING BASED ON GAS CLUSTER ION BEAM TECHNOLOGY AND ARTICLES PRODUCED THEREBY
- 专利标题（中）： 基于气体离子束技术的中性光束处理方法与装置及其制作方法
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申请号： US15047553申请日： 2016-02-18
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公开(公告)号： US20160172197A1公开(公告)日： 2016-06-16
- 发明人: Sean R. Kirkpatrick , Allen R. Kirkpatrick , Michael J. Walsh , Richard C. Svrluga
- 申请人： Sean R. Kirkpatrick , Allen R. Kirkpatrick , Michael J. Walsh , Richard C. Svrluga
- 申请人地址： US MA Billerica
- 专利权人： Exogenesis Corporation
- 当前专利权人： Exogenesis Corporation
- 当前专利权人地址： US MA Billerica
- 主分类号： H01L21/265
- IPC分类号： H01L21/265 ; H01L29/167
摘要：
A method for treating a silicon substrate, and a silicon substrate, provide a surface treated with an accelerated neutral beam.
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