发明授权
- 专利标题： Process for the reductive removal of halogen atoms from anthraquinones
- 专利标题（中）： 从蒽醌还原除去卤素原子的方法
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申请号： US33407申请日： 1979-04-26
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公开(公告)号： US4261909A公开(公告)日： 1981-04-14
- 发明人: Athanassios Tzikas , Jurgen Markert
- 申请人： Athanassios Tzikas , Jurgen Markert
- 申请人地址： CHX Basel
- 专利权人： Ciba-Geigy AG
- 当前专利权人： Ciba-Geigy AG
- 当前专利权人地址： CHX Basel
- 优先权： CHX4648/78 19780428
- 主分类号： C07C45/00
- IPC分类号： C07C45/00 ; C07C46/00 ; C07C50/34 ; C07C50/38 ; C07C67/00 ; C07C213/00 ; C07C225/34 ; C07C97/24
摘要：
A process for the reductive removal of halogen atoms from amino-, acylamino- or hydroxyanthraquinones, said halogen atoms being bonded in the .alpha.-position and/or ortho-position to amino, acylamino or hydroxyl groups, which comprises carrying out the reductive removal in basic medium with hydrazine or hydrazine derivatives.
公开/授权文献
- USD367727S Hair dryer 公开/授权日：1996-03-05
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