发明授权
- 专利标题： Electron beam aperture device
- 专利标题（中）： 电子束孔径装置
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申请号： US86254申请日： 1979-10-18
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公开(公告)号： US4283632A公开(公告)日： 1981-08-11
- 发明人: Seiichi Nakagawa , Takayoshi Ikeda
- 申请人： Seiichi Nakagawa , Takayoshi Ikeda
- 申请人地址： JPX Tokyo
- 专利权人： Nihon Denshi Kabushiki Kaisha
- 当前专利权人： Nihon Denshi Kabushiki Kaisha
- 当前专利权人地址： JPX Tokyo
- 优先权： JPX53/130250 19781023
- 主分类号： G21K1/02
- IPC分类号： G21K1/02 ; H01J9/16 ; H01J37/09 ; G01J1/00
摘要：
A 10 to 50 microns thick apertured foil is coated on at least one of its sides with a material having a thickness of about 10 to 100 microns. The atomic number of the coating material is such that characteristic X-rays generated are effectively absorbed.
公开/授权文献
- US5909832A Vehicle cleaning kit 公开/授权日：1999-06-08
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