发明授权
- 专利标题： Negative working diazo contact film
- 专利标题（中）： 负极工作重氮接触膜
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申请号： US359460申请日： 1982-03-18
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公开(公告)号： US4448873A公开(公告)日： 1984-05-15
- 发明人: John E. Walls , Major S. Dhillon
- 申请人： John E. Walls , Major S. Dhillon
- 申请人地址： NJ Somerville
- 专利权人： American Hoechst Corporation
- 当前专利权人： American Hoechst Corporation
- 当前专利权人地址： NJ Somerville
- 主分类号： G03F1/54
- IPC分类号： G03F1/54 ; G03F7/016 ; G03C1/60 ; G03C1/78
摘要：
A photographic element comprising a transparent support and a coating on the support comprising a diazonium composition having a light absorbency of about 45% or less, and a colorant composition, said coating having a light transmission of not more than about 0.1%.
公开/授权文献
- US5557194A Reference current generator 公开/授权日：1996-09-17
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