发明授权
- 专利标题： Method for removing a selenium layer from a substrate
- 专利标题（中）： 从底物中除去硒层的方法
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申请号： US513257申请日： 1983-07-13
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公开(公告)号： US4501621A公开(公告)日： 1985-02-26
- 发明人: Naoto Abe , Hidetoshi Akimoto , Hiroyuki Nomori
- 申请人： Naoto Abe , Hidetoshi Akimoto , Hiroyuki Nomori
- 申请人地址： JPX Tokyo
- 专利权人： Konishiroku Photo Industry Co., Ltd.
- 当前专利权人： Konishiroku Photo Industry Co., Ltd.
- 当前专利权人地址： JPX Tokyo
- 优先权： JPX55-83946 19800623; JPX55-86084 19800630
- 主分类号： B08B3/10
- IPC分类号： B08B3/10 ; B08B7/00 ; B08B7/04 ; B44D3/16 ; G03G5/00 ; G03G21/00
摘要：
A coating layer, such as a photosensitive selenium coating is removed from a substrate by producing cracks in the layer, introducing a volume expansive material into the cracks, and then causing the volume expansive material introduced into the cracks to expand and thereby dislodge the coating layer from the substrate.
公开/授权文献
- US5712362A Process for the production of UV-stable polycarbonates 公开/授权日：1998-01-27
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