发明授权
- 专利标题： Process for manufacturing a photomask
- 专利标题（中）： 光掩模制造工艺
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申请号： US75297申请日： 1987-07-17
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公开(公告)号： US4876164A公开(公告)日： 1989-10-24
- 发明人: Yaichiro Watakabe , Tatsuo Okamoto , Shuichi Matsuda
- 申请人： Yaichiro Watakabe , Tatsuo Okamoto , Shuichi Matsuda
- 申请人地址： JPX Tokyo
- 专利权人： Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha
- 当前专利权人： Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha
- 当前专利权人地址： JPX Tokyo
- 优先权： JPX60-16203 19850128
- 主分类号： G03F1/00
- IPC分类号： G03F1/00 ; G03F1/54 ; H01L21/027
摘要：
A photomask manufacturing process including a step of forming metal silicide film on a transparent silica glass substrate. A resist is applied onto the metal silicide film and then a patterning mask is provided by light or electron beam, followed by developing step. Exposed portions of the metal silicide film is etched away using a dry etching process.
公开/授权文献
- US6071621A Metallized film and decorative articles made therewith 公开/授权日：2000-06-06
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