发明授权
- 专利标题： Heat-sensitive diazo recording material with thiohydroquinone
- 专利标题（中）： 热敏重氮记录材料与硫代氢醌
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申请号： US178834申请日： 1988-03-25
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公开(公告)号： US4891297A公开(公告)日： 1990-01-02
- 发明人: Masanobu Takashima , Ken Iwakura , Masato Satomura , Kimio Ichikawa
- 申请人： Masanobu Takashima , Ken Iwakura , Masato Satomura , Kimio Ichikawa
- 申请人地址： JPX Kanagawa
- 专利权人： Fuji Photo Film Co.,Ltd.
- 当前专利权人： Fuji Photo Film Co.,Ltd.
- 当前专利权人地址： JPX Kanagawa
- 优先权： JPX61-29623 19860213
- 主分类号： B41M5/337
- IPC分类号： B41M5/337 ; G03C1/60 ; G03C1/61
摘要：
A heat-sensitive recording material is disclosed. The material comprises a support having provided thereon a recording layer containing one or more diazo compound, a coupling component, and at least one thiohydroquinone derivative as a sensitizing agent.
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