发明授权
US4963390A Metallo-organic solution deposition (MOSD) of transparent, crystalline
ferroelectric films
失效
透明结晶铁电薄膜的金属有机溶液沉积（MOSD）
- 专利标题： Metallo-organic solution deposition (MOSD) of transparent, crystalline ferroelectric films
- 专利标题（中）： 透明结晶铁电薄膜的金属有机溶液沉积（MOSD）
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申请号： US253538申请日： 1988-10-05
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公开(公告)号： US4963390A公开(公告)日： 1990-10-16
- 发明人: Russell A. Lipeles , Dianne J. Coleman
- 申请人： Russell A. Lipeles , Dianne J. Coleman
- 申请人地址： CA El Segundo
- 专利权人： The Aerospace Corporation
- 当前专利权人： The Aerospace Corporation
- 当前专利权人地址： CA El Segundo
- 主分类号： C03C17/25
- IPC分类号： C03C17/25 ; C04B41/50 ; C04B41/87 ; C23C18/12
摘要：
An improved process to deposit transparent, crystalline, ferroelectric films from metallo-organic solutions on platinum, glass, quartz, and sapphire substrates is disclosed. The use of this process results in a significant improvement in the transparency of perovskite, ferroelectric lead titanate (PT), lead zirconate titanate (PZT) and doped-PZT films (e.g. films doped with lanthanum, PLZT).
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