发明授权
- 专利标题： Low gloss polyacetal resin
- 专利标题（中）： 低光聚缩醛树脂
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申请号： US446001申请日： 1989-12-05
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公开(公告)号： US4987174A公开(公告)日： 1991-01-22
- 发明人: Edwina Ying , Conrad G. Hayes
- 申请人： Edwina Ying , Conrad G. Hayes
- 申请人地址： NJ Somerville
- 专利权人： Hoechst Celanese Corporation
- 当前专利权人： Hoechst Celanese Corporation
- 当前专利权人地址： NJ Somerville
- 主分类号： C08K7/10
- IPC分类号： C08K7/10
摘要：
A polyacetal resin composition for use in producing molded articles of low gloss comprises the polyacetal and an aluminosilicate fiber.
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