发明授权
- 专利标题： Method for the formation of a diffraction grating
- 专利标题（中）： 用于形成衍射光栅的方法
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申请号： US253811申请日： 1988-10-05
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公开(公告)号： US4997747A公开(公告)日： 1991-03-05
- 发明人: Toshihiko Yoshida , Haruhisa Takiguchi , Shinji Kaneiwa , Sadayoshi Matsui
- 申请人： Toshihiko Yoshida , Haruhisa Takiguchi , Shinji Kaneiwa , Sadayoshi Matsui
- 申请人地址： JPX Osaka
- 专利权人： Sharp Kabushiki Kaisha
- 当前专利权人： Sharp Kabushiki Kaisha
- 当前专利权人地址： JPX Osaka
- 优先权： JPX59-278999 19841227; EPX85309444.9 19851223
- 主分类号： G02B5/18
- IPC分类号： G02B5/18 ; G02B5/32 ; G02B6/124 ; H01S5/00 ; H01S5/12
摘要：
A method for the formation of a diffraction grating on a substrate using a holographic technique and an etching technique, wherein the periodicity of the pattern of the diffraction grating can be changed at will by a change of the light-path length of one of the two light fluxes from a holographic exposing system.
公开/授权文献
- US5494974A Reactive particulate resin and method for its production 公开/授权日：1996-02-27
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