发明授权
- 专利标题： Two-layer system
- 专利标题（中）： 两层系统
-
申请号： US450491申请日： 1989-12-14
-
公开(公告)号： US5071732A公开(公告)日： 1991-12-10
- 发明人: Manfred Kohler , Eike Poetsch , Jorg Ohngemach , Dieter Dorsch , Rudolf Eidenschink , Gerhard Greber
- 申请人： Manfred Kohler , Eike Poetsch , Jorg Ohngemach , Dieter Dorsch , Rudolf Eidenschink , Gerhard Greber
- 申请人地址： DEX Darmstadt
- 专利权人： Merck Patent Gesellschaft Mit Beschrankter Haftung
- 当前专利权人： Merck Patent Gesellschaft Mit Beschrankter Haftung
- 当前专利权人地址： DEX Darmstadt
- 优先权： DEX3629543 19860830; DEX3702897 19870131
- 主分类号： G03F7/095
- IPC分类号： G03F7/095
摘要：
Radiation-curable two-layer systems containing immobilized photoinitiators are suitable for the production of coatings of constant thickness and good adhesion, and relief structures of high resolution and edge steepness.
公开/授权文献
信息查询
IPC分类:
