发明授权
US5078879A Method for controlling silica/silicate deposition in aqueous systems
using 2-phosphonobutane tricarboxylic acid-1,2,4 and anionic polymers
失效
使用2-膦酰基丁酸三羧酸-1,2,4和阴离子聚合物控制含水体系中二氧化硅/硅酸盐沉积的方法
- 专利标题： Method for controlling silica/silicate deposition in aqueous systems using 2-phosphonobutane tricarboxylic acid-1,2,4 and anionic polymers
- 专利标题（中）： 使用2-膦酰基丁酸三羧酸-1,2,4和阴离子聚合物控制含水体系中二氧化硅/硅酸盐沉积的方法
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申请号： US546810申请日： 1990-07-02
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公开(公告)号： US5078879A公开(公告)日： 1992-01-07
- 发明人: Jasbir S. Gill , Susan P. Rey , John H. Wiernik
- 申请人： Jasbir S. Gill , Susan P. Rey , John H. Wiernik
- 申请人地址： PA Pittsburgh
- 专利权人： Calgon Corporation
- 当前专利权人： Calgon Corporation
- 当前专利权人地址： PA Pittsburgh
- 主分类号： C02F5/14
- IPC分类号： C02F5/14
摘要：
A method for controlling the formation of silica/silicate deposits in aqueous systems by adding an effective amount, preferably at least 0.1 ppm, of 2-phosphonobutane tricarboxylic acid-1,2,4 and, optionally, an anionic polymer, preferably a carboxylic/sulfonic polymer, or salts thereof to the aqueous system being treated. Borate or molybdate ion sources may also be added.
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