发明授权
- 专利标题： Cathode sputtering apparatus
- 专利标题（中）： 阴极溅射装置
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申请号： US656235申请日： 1991-02-15
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公开(公告)号： US5112467A公开(公告)日： 1992-05-12
- 发明人: Jaroslav Zejda
- 申请人： Jaroslav Zejda
- 申请人地址： DEX
- 专利权人： Leybold Aktiengesellschaft
- 当前专利权人： Leybold Aktiengesellschaft
- 当前专利权人地址： DEX
- 优先权： DEX4020659 19900629
- 主分类号： C23C14/34
- IPC分类号： C23C14/34 ; H01J37/34
摘要：
A cathode sputtering apparatus provided with a quick disconnect mechanism for rapid replacement of a target. The quick disconnect mechanism preferably includes a rotatable sleeve that upon appropriate rotation exerts a clamping force on the target. The clamping force preferably is created by balls caused to cam radially outward from a central axis.
公开/授权文献
- US4607455A Adjustable gate for doorways 公开/授权日：1986-08-26
信息查询
IPC分类:
