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US5178987A Aqueous developable deep UV negative resist containing benzannelated acetic acid and novolak resin 失效
含水可显影的深紫外线负极抗蚀剂，含有苯乙烯基化乙酸和酚醛清漆树脂

  • 专利标题： Aqueous developable deep UV negative resist containing benzannelated acetic acid and novolak resin
  • 专利标题（中）： 含水可显影的深紫外线负极抗蚀剂，含有苯乙烯基化乙酸和酚醛清漆树脂
  • 申请号： US348754
    申请日： 1989-04-24
  • 公开(公告)号： US5178987A
    公开(公告)日： 1993-01-12
  • 发明人: Sydney G. Slater , Stanley A. Ficner
  • 申请人： Sydney G. Slater , Stanley A. Ficner
  • 申请人地址： CT Cheshire
  • 专利权人： Olin Corporation
  • 当前专利权人： Olin Corporation
  • 当前专利权人地址： CT Cheshire
  • 主分类号： G03F7/038
  • IPC分类号： G03F7/038
Aqueous developable deep UV negative resist containing benzannelated acetic acid and novolak resin
摘要：
A radiation-sensitive mixture useful as a negative-working photoresist composition comprising:(a) at least one novolak resin; and(b) a photoactive benzannelated acetic acid selected from formula (I): ##STR1## wherein X is either an oxygen, sulfur or ##STR2##
摘要（中）：

一种用作负性光致抗蚀剂组合物的辐射敏感性混合物，其包含：（a）至少一种酚醛清漆树脂; 和（b）选自式（I）的光活性苯乙烯化乙酸：其中X是氧，硫或者“IMAGE”

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