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发明授权
US6063288A Inhibition of silica and silicate deposition using imidazolines 失效
使用咪唑啉抑制二氧化硅和硅酸盐沉积

  • 专利标题： Inhibition of silica and silicate deposition using imidazolines
  • 专利标题（中）： 使用咪唑啉抑制二氧化硅和硅酸盐沉积
  • 申请号： US109164
    申请日： 1998-06-30
  • 公开(公告)号： US6063288A
    公开(公告)日： 2000-05-16
  • 发明人: Donald C. Roe
  • 申请人： Donald C. Roe
  • 申请人地址： PA Trevose
  • 专利权人： BetzDearborn Inc.
  • 当前专利权人： BetzDearborn Inc.
  • 当前专利权人地址： PA Trevose
  • 主分类号： C02F5/12
  • IPC分类号： C02F5/12 ;  C02F5/02 ;  C02F5/04
Inhibition of silica and silicate deposition using imidazolines
摘要：
A method of controlling the deposition of silica-containing scales and their adhesion to surfaces in contact with an aqueous system is disclosed which comprises adding to the aqueous system an imidazoline or imidazoline derivative.
摘要（中）：

公开了一种控制含二氧化硅鳞片沉积及其与表面的粘附性的方法，该方法包括向水性体系中加入咪唑啉或咪唑啉衍生物。

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