发明授权
- 专利标题： Electrolytic process for forming a mineral
- 专利标题（中）： 形成矿物的电解过程
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申请号： US369780申请日： 1999-08-06
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公开(公告)号： US6153080A公开(公告)日： 2000-11-28
- 发明人: Robert L. Heimann , William M. Dalton , John Hahn , David M. Price , Wayne L. Soucie
- 申请人： Robert L. Heimann , William M. Dalton , John Hahn , David M. Price , Wayne L. Soucie
- 申请人地址： MO Moberly
- 专利权人： Elisha Technologies Co LLC
- 当前专利权人： Elisha Technologies Co LLC
- 当前专利权人地址： MO Moberly
- 主分类号： C23C28/00
- IPC分类号： C23C28/00 ; C25D9/04
摘要：
The disclosure relates to a process for forming a deposit on the surface of a metallic or conductive surface. The process employs an electrolytic process to deposit a mineral containing coating or film upon a metallic or conductive surface.
公开/授权文献
- US5518911A Human PAK65 公开/授权日：1996-05-21
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IPC分类:
