发明授权
- 专利标题： Semiconductor device and production thereof
- 专利标题（中）： 半导体器件及其制造
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申请号： US09702786申请日： 2000-11-01
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公开(公告)号： US06348396B1公开(公告)日： 2002-02-19
- 发明人: Norio Ishitsuka , Hideo Miura , Shuji Ikeda , Yasuko Yoshida
- 申请人： Norio Ishitsuka , Hideo Miura , Shuji Ikeda , Yasuko Yoshida
- 优先权： JP10-080812 19980327
- 主分类号： H01L2176
- IPC分类号： H01L2176
摘要：
A semiconductor device having a SGI structure produced by selecting D, T and R values for satisfying the formula: D
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