发明授权
- 专利标题： Radiation-sensitive lithographic printing plate precursor
- 专利标题（中）： 辐射敏感平版印刷版前体
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申请号： US09635207申请日： 2000-08-09
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公开(公告)号： US06465146B1公开(公告)日： 2002-10-15
- 发明人: Koichi Kawamura
- 申请人： Koichi Kawamura
- 优先权： JP11-225560 19990809; JP11-237263 19990824
- 主分类号： G03F7004
- IPC分类号： G03F7004
摘要：
Disclosed is a radiation-sensitive lithographic printing plate precursor comprising a photo-heat conversion agent incorporated therein, wherein the photo-heat conversion agent is a particulate metal oxide comprising an organic photo-heat conversion dye encapsulated therein.
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