- 专利标题： Heat-developable photosensitive material
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申请号： US09987620申请日： 2001-11-15
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公开(公告)号： US06649337B2公开(公告)日： 2003-11-18
- 发明人: Takanori Hioki , Katsumi Kobayashi
- 申请人： Takanori Hioki , Katsumi Kobayashi
- 优先权： JPP2000-351349 20001117; JPP2001-302129 20010928
- 主分类号： G03C112
- IPC分类号： G03C112
摘要：
A heat-developable photosensitive material comprises: a support; a photosensitive silver halide; a non-photosensitive organic silver salt; a reducing agent for a silver ion; a binder; and a compound having specified structure.
公开/授权文献
- US20020106594A1 Heat-developable photosensitive material 公开/授权日：2002-08-08
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