发明授权
- 专利标题： Surface inspection system
- 专利标题（中）： 表面检测系统
-
申请号： US10213607申请日： 2002-08-06
-
公开(公告)号： US06941792B2公开(公告)日： 2005-09-13
- 发明人: Hisashi Isozaki , Masanori Matsuda
- 申请人： Hisashi Isozaki , Masanori Matsuda
- 申请人地址： JP Tokyo-to
- 专利权人： Kabushiki Kaisha TOPCON
- 当前专利权人： Kabushiki Kaisha TOPCON
- 当前专利权人地址： JP Tokyo-to
- 代理机构： Nields & Lemack
- 优先权： JP2001-243939 20010810; JP2002-181136 20020621
- 主分类号： G01B11/30
- IPC分类号： G01B11/30 ; G01N21/93 ; G01N21/95 ; G01N21/956 ; H01L21/66 ; G01B11/00
摘要：
A surface inspection system, comprising a calibration wafer where particles of known specifications are spread, a wafer transport unit having a transport robot, a surface inspection unit, and a calibration wafer accommodation unit for accommodating the calibration wafer.
公开/授权文献
- US20030029220A1 Surface inspection system 公开/授权日：2003-02-13
信息查询
