发明授权
US06961146B1 Method for homogenizing the exposure of the different beams in a multi beam plotter
失效
在多光束绘图仪中均匀化不同光束的曝光的方法
- 专利标题： Method for homogenizing the exposure of the different beams in a multi beam plotter
- 专利标题（中）： 在多光束绘图仪中均匀化不同光束的曝光的方法
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申请号： US09717390申请日： 2000-11-22
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公开(公告)号： US06961146B1公开(公告)日： 2005-11-01
- 发明人: Ariel Elior , Alex Weiss , Shmuel Vashdi
- 申请人： Ariel Elior , Alex Weiss , Shmuel Vashdi
- 申请人地址： IL Herzlia
- 专利权人： Creo Il LTD
- 当前专利权人： Creo Il LTD
- 当前专利权人地址： IL Herzlia
- 代理机构： Pearl Cohen Zedek Latzer, LLP
- 主分类号： B41J2/45
- IPC分类号： B41J2/45 ; G06F15/00 ; G06K15/12
摘要：
Disclosed are methods and apparatus for homogenizing the exposure of different beams in a multi beam-plotter. The plotter typically operates on films or plates.
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