发明授权
- 专利标题： Standoff/mask structure for electrical interconnect
- 专利标题（中）： 电气互连的间隔/掩模结构
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申请号： US10447169申请日： 2003-05-27
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公开(公告)号： US06998539B2公开(公告)日： 2006-02-14
- 发明人: John R. Andrews , Bradley J. Gerner , Richard Schmachtenberg, III , Chad Slenes , Samuel V. Schultz
- 申请人： John R. Andrews , Bradley J. Gerner , Richard Schmachtenberg, III , Chad Slenes , Samuel V. Schultz
- 申请人地址： US CT Stamford
- 专利权人： Xerox Corporation
- 当前专利权人： Xerox Corporation
- 当前专利权人地址： US CT Stamford
- 代理商 Manuel Quioque
- 主分类号： H05K1/02
- IPC分类号： H05K1/02
摘要：
A multi-layer standoff/mask structure including a standoff having a plurality of standoff openings and a mask having a plurality of mask openings aligned with the standoff openings.
公开/授权文献
- US20040238208A1 Standoff/mask structure for electrical interconnect 公开/授权日：2004-12-02
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