发明授权
- 专利标题： Plasma resistant member
- 专利标题（中）： 等离子体元件
-
申请号： US10901435申请日： 2004-07-29
-
公开(公告)号： US07090932B2公开(公告)日： 2006-08-15
- 发明人: Yoshio Kobayashi , Masahiko Ichishima , Yuu Yokoyama
- 申请人： Yoshio Kobayashi , Masahiko Ichishima , Yuu Yokoyama
- 申请人地址： JP Tokyo
- 专利权人： Toshiba Ceramics Co., Ltd.
- 当前专利权人： Toshiba Ceramics Co., Ltd.
- 当前专利权人地址： JP Tokyo
- 代理机构： Foley & Lardner LLP
- 优先权： JPP.2003-202993 20030729; JPP.2004-196959 20040702
- 主分类号： B32B15/04
- IPC分类号： B32B15/04
摘要：
A plasma resistant member has a base material and a coating layer made of an Y2O3, the coating layer being formed on a surface of the base material. The coating layer has a thickness of 10 μm or more and the Y2O3 of the coating layer contains solid solution Si ranging from 100 ppm to 1000 ppm.
公开/授权文献
- US20050084692A1 Plasma resistant member 公开/授权日：2005-04-21
信息查询
