- 专利标题： Method of manufacturing a device by employing a lithographic apparatus including a sliding electron-optical element
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申请号： US10425369申请日： 2003-04-28
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公开(公告)号： US07102732B2公开(公告)日： 2006-09-05
- 发明人: Pieter Willem Herman de Jager , Pieter Kruit , Arno Jan Bleeker , Karel Diederick van der Mast
- 申请人： Pieter Willem Herman de Jager , Pieter Kruit , Arno Jan Bleeker , Karel Diederick van der Mast
- 申请人地址： US AZ Tempe US FL Orlando
- 专利权人： Elith LLC,Agere Systems Guardian Corp.
- 当前专利权人： Elith LLC,Agere Systems Guardian Corp.
- 当前专利权人地址： US AZ Tempe US FL Orlando
- 代理机构： Pillsbury Winthrop Shaw Pittman LLP
- 优先权： EP00306912 20000814
- 主分类号： G03B27/54
- IPC分类号： G03B27/54 ; G03B27/42 ; G03B27/32 ; G21K5/00
摘要：
Various options for improving throughput in an e-beam lithography apparatus are described. A slider lens moves in synchronism with the scanning motion of the electron beam.
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