发明授权
- 专利标题： Objective, particularly a projection objective for use in semiconductor lithography
- 专利标题（中）： 目的，特别是用于半导体光刻的投影目标
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申请号： US10484866申请日： 2002-07-20
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公开(公告)号： US07123427B2公开(公告)日： 2006-10-17
- 发明人: Alexander Kohl , Hubert Holderer , Werner Lang , Hartmut Brandenburg
- 申请人： Alexander Kohl , Hubert Holderer , Werner Lang , Hartmut Brandenburg
- 申请人地址： DE Oberkochen
- 专利权人： Carl Zeiss SMT AG
- 当前专利权人： Carl Zeiss SMT AG
- 当前专利权人地址： DE Oberkochen
- 代理机构： Wells St. John, P.S.
- 优先权： DE10136387 20010726
- 国际申请： PCT/EP02/08110 WO 20020720
- 国际公布： WO03/012529 WO 20030213
- 主分类号： G02B7/02
- IPC分类号： G02B7/02 ; G02B7/182
摘要：
The invention relates to an objective, particularly a projection objective for use in semiconductor lithography, comprising optical elements such as lenses (16) and mirrors (11a). According to the invention, at least a portion of the optical elements (16, 11a) is provided with a reflective surface outside of the optically active area serving as the reference surface (12) for a the optical element inside the objective (8).
公开/授权文献
信息查询
IPC分类:
| G | 物理 |
| G02 | 光学 |
| G02B | 光学元件、系统或仪器 |
| G02B7/00 | 光学元件的安装、调整装置或不漏光连接 |
| G02B7/02 | .用于透镜 |
