发明授权
US07196343B2 Optical element, lithographic apparatus including such an optical element, device manufacturing method, and device manufactured thereby
有权
光学元件，包括这种光学元件的光刻设备，器件制造方法以及由此制造的器件
- 专利标题： Optical element, lithographic apparatus including such an optical element, device manufacturing method, and device manufactured thereby
- 专利标题（中）： 光学元件，包括这种光学元件的光刻设备，器件制造方法以及由此制造的器件
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申请号： US11025851申请日： 2004-12-30
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公开(公告)号： US07196343B2公开(公告)日： 2007-03-27
- 发明人: Maarten Marinus Johannes Wilhelmus Van Herpen , Levinus Pieter Bakker , Derk Jan Wilfred Klunder
- 申请人： Maarten Marinus Johannes Wilhelmus Van Herpen , Levinus Pieter Bakker , Derk Jan Wilfred Klunder
- 申请人地址： NL Veldhoven
- 专利权人： ASML Netherlands B.V.
- 当前专利权人： ASML Netherlands B.V.
- 当前专利权人地址： NL Veldhoven
- 代理机构： Pillsbury Winthrop Shaw Pittman, LLP
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20 ; G02B27/14
摘要：
An optical element including an anti-reflection (AR) coating is configured to reflect Extreme-Ultra-Violet (EUV) radiation only.
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