发明授权
US07379170B2 Apparatus and method for characterizing an image system in lithography projection tool
有权
用于表征光刻投影工具中的图像系统的装置和方法
- 专利标题： Apparatus and method for characterizing an image system in lithography projection tool
- 专利标题（中）： 用于表征光刻投影工具中的图像系统的装置和方法
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申请号： US11203331申请日： 2005-08-13
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公开(公告)号： US07379170B2公开(公告)日： 2008-05-27
- 发明人: Hsu-Ting Huang , Abdurrahman Sezginer
- 申请人： Hsu-Ting Huang , Abdurrahman Sezginer
- 申请人地址： US CA San Jose
- 专利权人： Invarium, Inc.
- 当前专利权人： Invarium, Inc.
- 当前专利权人地址： US CA San Jose
- 代理机构： Sheppard Mullin Richter & Hampton LLP
- 主分类号： G01B9/00
- IPC分类号： G01B9/00
摘要：
A system and method for characterizing an imaging system causes a diffraction image indicative of a test structure having a generalized line-grating to be formed and then extracts from a measurement of the diffraction image a lens transmittance function, a photoresist property or a defocus distance.
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